Wraz z dynamicznym rozwojem przemysłu półprzewodnikowego, jego skala gwałtownie wzrosła, a urządzenia do produkcji półprzewodników stały się bardziej precyzyjne i złożone. Ponieważ ceramika charakteryzuje się wysoką twardością, wysokim modułem sprężystości, wysoką odpornością na zużycie, wysoką izolacyjnością, odpornością na korozję, niską rozszerzalnością itp., może być stosowana jako element maszyn do polerowania krzemu, urządzeń do epitaksjalnej/utleniającej/dyfuzyjnej obróbki cieplnej, maszyn litograficznych, urządzeń do osadzania, urządzeń do trawienia półprzewodników, urządzeń do implantacji jonów i innych urządzeń, badania, rozwój i produkcja precyzyjnych elementów ceramicznych bezpośrednio wpływają na rozwój przemysłu półprzewodnikowego. Wymagania techniczne dotyczące ich wytwarzania są coraz wyższe.
Wysokiej czystości tlenek glinu, 99,7%-99,9% tlenku glinu.
Wysoka wytrzymałość mechaniczna, wysoka odporność na zużycie, wysoka izolacja elektryczna, wysoka stabilność chemiczna, dobra odporność na ciepło i korozję. Obecnie stosowanie ceramicznych tarcz szlifierskich do szlifowania półprzewodnikowych płytek krzemowych jest najnowocześniejszą i najnowocześniejszą metodą szlifowania. Dwustronny proces szlifowania jest stosowany do szlifowania ciętych płytek krzemowych, a jakość szlifowanego wafla jest poprawiana poprzez udoskonalenie procesu szlifowania (materiału tarczy, płynu szlifierskiego, ciśnienia i prędkości szlifowania itp.). W szczególności, zastosowanie płytek ceramicznych zamiast żeliwnych pozwala uniknąć szlifowania głównej powierzchni płytki spowodowanego przez rysy lub zanieczyszczenia, zmniejsza wprowadzanie jonów metali, co może ograniczyć późniejszą obróbkę krzemu, skrócić czas obróbki (korozję), poprawić wydajność produkcji i zmniejszyć straty krzemu, a tym samym znacznie poprawić jego wykorzystanie.
Płyta polerska do płytek o wysokiej zawartości tlenku glinuJest stosowany w przemyśle półprzewodnikowym, naftowym, chemicznym, fotowoltaicznym, ciekłokrystalicznym i innych gałęziach przemysłu, takich jak części mechaniczne, części elektroniczne, dyski indukcyjne mikrofalowe, materiały izolacyjne i inne części, urządzenia półprzewodnikowe, urządzenia próżniowe, urządzenia do produkcji ciekłokrystalicznej i inne części. Ceramika glinowa o dużych rozmiarach i wysokiej czystości ma istotne znaczenie w przemyśle szafirowym i produkcji układów scalonych. Jest kluczowym materiałem pomocniczym i eksploatacyjnym do chemiczno-mechanicznego polerowania (CMP) szafirowych i półprzewodnikowych płytek krzemowych. Ceramika glinowa o dużych rozmiarach i wysokiej czystości może być również stosowana jako podłoże glinowe do wyświetlaczy LCD.
Czas publikacji: 27-06-2024